|
|
| 首页 >> 专题资料 >> 电气元件 |
| 掩模段专题资料光盘 |
| 时间:2009-5-20,点击:0 |
光盘编号：837146 《掩模段专题资料光盘》包括专利技术全文资料38份。整套光盘收费230元，全国范围内可免费货到付款。请选择订购方式：
(1)在线订购>>点击此处 客服QQ： 78865105
(2) 电话订购 0755-82426685 82426756 13926561450
(3) 传真订购 0755-82426756
技术编号 技术名称
(837146-0038) 薄膜半导体器件、电光装置及中间掩模
(837146-0037) 灰色调掩模的制造方法以及灰色调掩模
(837146-0036) 248纳米波段的零级抑制相位掩模
(837146-0035) 用于材料构图的硬掩模结构
(837146-0034) 灰阶掩模的缺陷修正方法和制造方法、灰阶掩模及图案转印方法
(837146-0033) 灰阶掩模的缺陷修正方法和制造方法以及灰阶掩模
(837146-0032) 蚀刻掩模特征临界尺寸的减小
(837146-0031) 用来自动产生光掩模定单的基于规则的系统和方法
(837146-0030) 掩模成膜方法及掩模成膜设备
(837146-0029) 波纹缺陷检查方法和系统及光掩模的制造方法
(837146-0028) 清洗掩模基板
(837146-0027) 降低绕线布局变动而减少掩模工序的方法
(837146-0026) 用于PCB上器件的改进逸出的区域阵列布线掩模
(837146-0025) 清洗掩模
(837146-0024) 全透明无铬移相掩模实现100纳米图形加工的方法
(837146-0023) 掩模版用透光性基板的制造方法、掩模版的制造方法、曝光用掩模的制造方法、半导体装置的制造方法以及液晶显示装置的制造方法以及曝光用掩模的缺陷修正方法
(837146-0022) 灰色调掩模和薄膜晶体管基板的制造方法
(837146-0021) 光刻掩模和用于生成光刻掩模的方法
(837146-0020) 反射光掩模及其制造方法
(837146-0019) 通过掩模用横向过生长来制备氮化镓衬底以及由此制备的器件
(837146-0018) 谱图掩模触发
(837146-0017) 薄膜半导体器件及电光装置、其制造方法及中间掩模
(837146-0016) 波纹缺陷检查方法及装置、以及光掩模的制造方法
(837146-0015) 波纹缺陷检查掩模、波纹缺陷检查装置及方法、以及光掩模的制造方法
(837146-0014) 掩模图形修正法
(837146-0013) 曝光掩模图形的形成方法,曝光掩模图形,以及半导体器件的制作方法
(837146-0012) 激光掩模以及利用其结晶的方法
(837146-0011) 用于相移光刻掩模的光学接近校正
(837146-0010) 用于对准或重叠的标记结构，限定它的掩模图案及使用该掩模图案的光刻投影装置
(837146-0009) 微光学器件数字分形掩模制作方法
(837146-0008) 差分交替相移掩模优化
(837146-0007) 阵列基板制造用的光掩模、阵列基板及其制造方法
(837146-0006) 用于掩模对准的透射对准标记组合及其掩模对准方法
(837146-0005) 半导体电路用光掩模的订货方法
(837146-0004) 制作用于电子束绘图的电子束掩模的方法和制作该掩模的装置
(837146-0003) 掩模、附光反射膜基片、光反射膜制法与显示装置及电器
(837146-0002) 薄膜半导体器件及电光装置、其制造方法及中间掩模
(837146-0001) 用于生产有机发光二极管器件将多个掩模段对准以提供组装的掩模
|
|
|
|
| 【打印】【关闭】 |
|
|
设为首页
加入收藏